http://www.loc.gov/mods/v3 http://www.loc.gov/standards/mods/v3/mods-3-2.xsd
Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie
unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation
SCHNEIDER, Joachim : -- Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie -- unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation. -- 1978. 132 S. -- Dortmund, Univ., Abt. Elektrotechnik, Diss., -- 1978 -- 200