Tiefenverteilung und Ausheizverhalten von implantierten Li-Atomen in verschiedenen Metallen.

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autor principal: Kie, Tjan
Format: Llibre
Idioma:alemany
Publicat: Berlin Freie Univ., Fachbereich Physik 1986
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
Order eBook:
Order Book: Login to order

MARC

LDR 00000nam a2200000 c 4500
001 924145
007 tu
041 |a ger 
100 1 |a Kie, Tjan 
245 1 0 |a Tiefenverteilung und Ausheizverhalten von implantierten Li-Atomen in verschiedenen Metallen. 
246 3 |a K i e , T j a n 
264 1 |a Berlin  |b Freie Univ., Fachbereich Physik  |c 1986 
300 |a 103 S.  |c 8° 
500 |a K i e , T j a n -- Tiefenverteilung und Ausheizverhalten von implantierten -- Li-Atomen in verschiedenen Metallen. -- 1985. -- 103 S. -- 8° -- Berlin, Freie Univ., Fachbereich Physik, Diss. 1986 
852 |c D 209.869 
999 |a Dissertation 
591 |a description: Tiefenverteiluna und Ausheizverhalten von implantiertenLiAtomen in verschiedenen Metallen.1985. 1O3S. 8Berlin, Freie Univ., Fachbereich Physik, Diss.1986  |a signature: D 209.869  |a author: Kie, Tjan  |a published: 1986