Über das Verhalten von SiF4 gegenüber einigen Sauerstoffhaltigen Reaktionspartnern, insbesondere gegen H2O und Natriumsilikate, zwischen 400 und 1200°C.

I tiakina i:
Ngā taipitopito rārangi puna kōrero
Kaituhi matua: Legat, Werner Ernst
Hōputu: Pukapuka
Reo:Tiamana
I whakaputaina: Gießen Univ. 1978
Ngā Tūtohu: Tāpirihia he Tūtohu
Kāore He Tūtohu, Me noho koe te mea tuatahi ki te tūtohu i tēnei pūkete!
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