Schneider, J. (1978). Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie: Unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation. Univ., Abt. Elektrotechnik.
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Schneider, Joachim. Eine Kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie: Unter Wesentlicher Nutzung Der Ionenimplantation. Dortmund: Univ., Abt. Elektrotechnik, 1978.
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Schneider, Joachim. Eine Kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie: Unter Wesentlicher Nutzung Der Ionenimplantation. Univ., Abt. Elektrotechnik, 1978.
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