Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation
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| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | Deutsch |
| Veröffentlicht: |
Dortmund
Univ., Abt. Elektrotechnik
1978
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MARC
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