Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation
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|---|---|
| Natura: | Libro |
| Lingua: | tedesco |
| Pubblicazione: |
Dortmund
Univ., Abt. Elektrotechnik
1978
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| Descrizione del documento: | SCHNEIDER, Joachim : -- Eine kombinierte CMOS/Bipolar-Technologie -- unter wesentlicher Nutzung der Ionenimplantation. -- 1978. 132 S. -- Dortmund, Univ., Abt. Elektrotechnik, Diss., -- 1978 -- 200 |
|---|---|
| Descrizione fisica: | 132 S. |