Chemisches und physikalisches Verhalten von Siliconabdrücken (Silone) und Kunstharzmodellen (Ruwarex) im Verlauf der indirekten Arbeitsmethodik.
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| 第一著者: | |
|---|---|
| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | ドイツ語 |
| 出版事項: |
Berlin
1961
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MARC
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