Chemisches und physikalisches Verhalten von Siliconabdrücken (Silone) und Kunstharzmodellen (Ruwarex) im Verlauf der indirekten Arbeitsmethodik.
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Médium: | Kniha |
| Jazyk: | němčina |
| Vydáno: |
Berlin
1961
|
| Tagy: |
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
| Order eBook: |
|
| Order Book: | Login to order |
| Popis jednotky: | Hau, Dieter: Chemisches und physikalisches ²Verhalten von Silicon- -- abdrücken (Silone) und Kunstharzmodellen (Ruwarex) im Verlauf -- der indirekten Arbeitsmethodik. -- Berlin 1961. 85 S. mit Abb. 8° -- Berlin, F. U., Med. F., Diss. v. 2. Mai 1961. -- <U 62. 725 |
|---|---|
| Fyzický popis: | 85 S. mit Abb. 8° |