Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation.
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Book |
| Language: | German |
| Published: |
Dortmund
Univ., Abt. Elektrotechn.
1977
|
| Link to Bibsearch: | matching Alma Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. (author 0.0%, title 100.0%, shelfmark 100.0%, overall 65.0%) |
| Tags: |
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Order eBook: |
|
| Order Book: | Login to order |
MARC
| LDR | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 160423 | ||
| 007 | tu | ||
| 041 | |a ger | ||
| 100 | 1 | |a Cioaca, Dumitru | |
| 245 | 1 | 0 | |a Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. |
| 246 | 3 | |a CIOACA, Dumitru | |
| 264 | 1 | |a Dortmund |b Univ., Abt. Elektrotechn. |c 1977 | |
| 300 | |a IV, 153 S. | ||
| 500 | |a CIOACA, Dumitru : -- Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. -- 1977. IV, 153 S. -- Dortmund, Univ., Abt. Elektrotechn., Diss., -- 1977 -- 180 | ||
| 852 | |c D 172.099 | ||
| 999 | |a Dissertation | ||
| 591 | |a description: Optimierung einer MOS NKanalEnhancementDepletionTechnologie mit Ionenimplantation1977. IV, 153 S.Dortmund, Univ., Abt. Elektrotechn., Diss.,1977180 |a author: CIOACA, Dumitru |a published: 1977 | ||
| 856 | 2 | 2 | |u https://bibsearch.uibk.ac.at/Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. |y matching Alma Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. (author 0.0%, title 100.0%, shelfmark 100.0%, overall 65.0%) |
| 999 | |z 65 |