Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation.

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Cioaca, Dumitru
Format: Book
Language:German
Published: Dortmund Univ., Abt. Elektrotechn. 1977
Link to Bibsearch:matching Alma Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. (author 0.0%, title 100.0%, shelfmark 100.0%, overall 65.0%)
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Order eBook:
Order Book: Login to order