Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation.

Spremljeno u:
Bibliografski detalji
Glavni autor: Cioaca, Dumitru
Format: Knjiga
Jezik:njemački
Izdano: Dortmund Univ., Abt. Elektrotechn. 1977
Online pristup:matching Alma Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. (author 0.0%, title 100.0%, shelfmark 100.0%, overall 65.0%)
Oznake: Dodaj oznaku
Bez oznaka, Budi prvi tko označuje ovaj zapis!
Order eBook:
Order Book: Login to order