Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation.
Kaydedildi:
| Yazar: | |
|---|---|
| Materyal Türü: | Kitap |
| Dil: | Almanca |
| Baskı/Yayın Bilgisi: |
Dortmund
Univ., Abt. Elektrotechn.
1977
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| Online Erişim: | matching Alma Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. (author 0.0%, title 100.0%, shelfmark 100.0%, overall 65.0%) |
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| Diğer Bilgileri: | CIOACA, Dumitru : -- Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion-Technologie mit Ionenimplantation. -- 1977. IV, 153 S. -- Dortmund, Univ., Abt. Elektrotechn., Diss., -- 1977 -- 180 |
|---|---|
| Fiziksel Özellikler: | IV, 153 S. |