Untersuchungen an SiO-Dampf über Streuung und Geschwindigkeitsverteilung im Bereich zwischen molekularer und gasdynamischer Effusion.
Uloženo v:
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Médium: | Kniha |
| Jazyk: | němčina |
| Vydáno: |
Innsbruck
1965
|
| Tagy: |
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
| Order eBook: |
|
| Order Book: | Login to order |
Podobné jednotky: Untersuchungen an SiO-Dampf über Streuung und Geschwindigkeitsverteilung im Bereich zwischen molekularer und gasdynamischer Effusion.
- Elektronische Haftstellen im Bereich der SiO2-Si Grenzfläche
- Einschlussverbindungen von SiO2
- Untersuchungen an SiO2-Oberflächen
- Untersuchung der optischen Eigenschaften von SiO-Aufdampfschichten und von verschiedenen stark oxydierten Siliziumschichten zwischen Si und SiO2.
- Charge Trapping near the Si/SiO2 interface in semiconductor devices.
- Hydrothermal gebundene Feuerbetone aus CaO und SiO2.