Untersuchungen zum chemischen Transport von SiO2 und Silicaten mit gasförmigen Fluoriden.
Збережено в:
| Автор: | |
|---|---|
| Формат: | Книга |
| Мова: | Німецька |
| Опубліковано: |
Gießen
1975
|
| Теги: |
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Order eBook: |
|
| Order Book: | Login to order |
Схожі ресурси: Untersuchungen zum chemischen Transport von SiO2 und Silicaten mit gasförmigen Fluoriden.
- Untersuchungen an SiO2-Oberflächen
- Einschlussverbindungen von SiO2
- Elektronische Haftstellen im Bereich der SiO2-Si Grenzfläche
- Untersuchungen in Dreistoffsystem Na2O-SiO2-ZrO2
- Charge Trapping near the Si/SiO2 interface in semiconductor devices.
- Untersuchung der optischen Eigenschaften von SiO-Aufdampfschichten und von verschiedenen stark oxydierten Siliziumschichten zwischen Si und SiO2.