Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
Kaydedildi:
| Yazar: | |
|---|---|
| Materyal Türü: | Kitap |
| Dil: | Almanca |
| Baskı/Yayın Bilgisi: |
Bochum
1984
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MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 862004 | ||
| 007 | tu | ||
| 041 | |a ger | ||
| 100 | 1 | |a Hofzumahaus, Andreas | |
| 245 | 1 | 0 | |a Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser. |
| 246 | 3 | |a HOFZUMAHAUS, Andreas: | |
| 264 | 1 | |a Bochum |c 1984 | |
| 300 | |a 169 S.m.51 Abb.u.Tab. |c 8° | ||
| 500 | |a HOFZUMAHAUS, Andreas: -- Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches -- Löschen und Rotationsrelaxation von NH<A3Pi>- -- Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak -- mit einem ArF-Excimerlaser.(Mit Zsfassung.) -- Bochum 1984. 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8° -- Bochum,naturwiss.Diss.1984. -- 1986! -- Bi | ||
| 852 | |c D 205.414 | ||
| 999 | |a Dissertation | ||