Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
Sábháilte in:
| Príomhchruthaitheoir: | |
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| Formáid: | LEABHAR |
| Teanga: | Gearmáinis |
| Foilsithe / Cruthaithe: |
Bochum
1984
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| Clibeanna: |
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| Cur síos ar an mír: | HOFZUMAHAUS, Andreas: -- Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches -- Löschen und Rotationsrelaxation von NH<A3Pi>- -- Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak -- mit einem ArF-Excimerlaser.(Mit Zsfassung.) -- Bochum 1984. 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8° -- Bochum,naturwiss.Diss.1984. -- 1986! -- Bi |
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| Cur síos fisiciúil: | 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8° |