Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
Kaydedildi:
| Yazar: | |
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| Materyal Türü: | Kitap |
| Dil: | Almanca |
| Baskı/Yayın Bilgisi: |
Bochum
1984
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| Etiketler: |
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| Diğer Bilgileri: | HOFZUMAHAUS, Andreas: -- Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches -- Löschen und Rotationsrelaxation von NH<A3Pi>- -- Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak -- mit einem ArF-Excimerlaser.(Mit Zsfassung.) -- Bochum 1984. 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8° -- Bochum,naturwiss.Diss.1984. -- 1986! -- Bi |
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| Fiziksel Özellikler: | 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8° |