Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
保存先:
| 第一著者: | |
|---|---|
| フォーマット: | 図書 |
| 言語: | ドイツ語 |
| 出版事項: |
Bochum
1984
|
| タグ: |
タグなし, このレコードへの初めてのタグを付けませんか!
|
| Order eBook: |
|
| Order Book: | Login to order |
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 862004 | ||
| 007 | tu | ||
| 041 | |a ger | ||
| 100 | 1 | |a Hofzumahaus, Andreas | |
| 245 | 1 | 0 | |a Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser. |
| 246 | 3 | |a HOFZUMAHAUS, Andreas: | |
| 264 | 1 | |a Bochum |c 1984 | |
| 300 | |a 169 S.m.51 Abb.u.Tab. |c 8° | ||
| 500 | |a HOFZUMAHAUS, Andreas: -- Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches -- Löschen und Rotationsrelaxation von NH<A3Pi>- -- Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak -- mit einem ArF-Excimerlaser.(Mit Zsfassung.) -- Bochum 1984. 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8° -- Bochum,naturwiss.Diss.1984. -- 1986! -- Bi | ||
| 852 | |c D 205.414 | ||
| 999 | |a Dissertation | ||
| 591 | |a description: Bildung,Strahlungslebensdauer,elektronischesLöschen und Rotationsrelaxation von NH A?r? Radikalen aus der UVPhotolyse von Ammoniakmit einem ArFExcimerlaser. Mit Zsfassung. Bochum 1984. 169 S.m.51 Abb.u.Tab. 8Bochum,naturwiss.Diss.1984.1986 Bi |a signature: D 205.414 |a author: HOFZUMAHAUS, Andreas |a published: 1986 | ||