Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
I tiakina i:
| Kaituhi matua: | |
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| Hōputu: | Pukapuka |
| Reo: | Tiamana |
| I whakaputaina: |
Bochum
1984
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| Ngā Tūtohu: |
Kāore He Tūtohu, Me noho koe te mea tuatahi ki te tūtohu i tēnei pūkete!
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Ngā tūemi rite: Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
- Photolyse kleiner Moleküle mit einem ArF-Exeimerlaser.
- Excimerlaser-gepumpte kurzwellige Farbstofflaser.
- Untersuchungen zur Rotationsrelaxation.
- Totaler Elektronenstoßionisationsquerschnitt von Ammoniak (NH3)
- Laden, Löschen, Liegen in der deutschen Rheinschiffahrt
- Untersuchung der Kinetik bei der UV-Photolyse perfluorierter Alkyljodide.