Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
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|---|---|
| Format: | Llibre |
| Idioma: | alemany |
| Publicat: |
Bochum
1984
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