Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3Pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser.
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| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | Deutsch |
| Veröffentlicht: |
Bochum
1984
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MARC
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